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青島凈化工程的溫濕度控制!

2023-07-12 17:57:03
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青島凈化工程的溫度和濕度主要根據(jù)工藝要求確定,但在滿足工藝要求的情況下,應(yīng)考慮人的舒適度。隨著空氣潔凈度要求的升高,工藝對(duì)溫度和濕度的要求越來(lái)越嚴(yán)格。具體工藝對(duì)溫度的要求以后會(huì)列出,但作為一般原則,由于加工精度越來(lái)越精細(xì),對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求也越來(lái)越小。例如,在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光過(guò)程中,玻璃和硅片作為掩膜板材料的熱膨脹系數(shù)差異越來(lái)越小。



硅片直徑為100um,溫度上升1度,造成0.24um線性膨脹,因此要有±0.1度的恒溫,同時(shí)要求濕度值一般較低,因?yàn)槿顺龊购螅瑫?huì)對(duì)產(chǎn)品造成污染,尤其是怕鈉的半導(dǎo)青島凈化工程,這種車(chē)間溫度不能超過(guò)25度,濕度過(guò)高造成的問(wèn)題更多。當(dāng)相對(duì)濕度高于55%時(shí),冷卻水管壁會(huì)結(jié)露,如果發(fā)生在精密裝置或電路中,會(huì)造成各種事故。當(dāng)相對(duì)濕度為50%時(shí),容易生銹。另外,當(dāng)濕度過(guò)高時(shí),硅片表面粘附的灰塵會(huì)被空氣中的水分子化學(xué)吸附,難以去除。相對(duì)濕度越高,粘附越難去除,但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí),由于靜電的作用,顆粒容易吸附在表面,大量半導(dǎo)體器件容易擊穿。硅片生產(chǎn)的佳濕度范圍為35-45%。



在青島凈化工程的基礎(chǔ)建設(shè)中,要利用好以上方法,從設(shè)計(jì)到施工,注重效率和產(chǎn)品質(zhì)量,在高效的前提下進(jìn)行優(yōu)質(zhì)的工程建設(shè)。

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